インフォメーション

2012年度 インフォメーション

低酸素・高純度Co-Fe-Bスパッタリングターゲット



Co-Fe-B Target

磁性体であるCo-Fe-BはTMR素子の強磁性層として利用されています。当社では、溶融法による低酸素化する製造方法を確立し、また高純度化技術により高い純度のターゲットを実現することができました。

 現在、この低酸素・高純度のCo-Fe-Bターゲットはトンネル磁気抵抗(TMR)を利用したHDDヘッド材料として供給しておりますが、MRAM(磁気抵抗ランダムアクセスメモリー)用としてもご使用頂けると期待しています。

Co-Fe-Bの組成比や、Co-Fe-B-αとして第4元素を添加するなど、お客様のご要望に応じて素材をカスタマイズ可能です。

大きさは25φ〜300φまで製造可能です。様々な形状に対応できますのでお気軽にお問い合わせください。
Element Analysis 99.9% Analysis 99.99%
AlN/DN/D
Cr20N/D
Cu2020
Ni150N/D
MnN/DN/D
Si2020
NN/DN/D
O8040

組成例:Co-Fe-B(40:40:20atm%)

純度:(Purity) 99.9%up 99.99% up

分析例:(ppm)(Typical Impurities)


2012.7