トップページのトピックスに掲載された新製品や注目を浴びている製品情報のバックナンバーです。
ＭＯＣＶＤ材料、金属有機化合物
当社のMO-CVD材料、金属有機化合物に関する情報を、化合物ごとにお届けしています。
| 2009年3月 | ブルッカイト型TiO2 |
|---|---|
| 2008年9月 | EｔCp（シクロペンタジエニル）錯体 |
| 2004年7月 | トリス（sec−ブトキシ）アルミニウム |
| 2004年3月 | TaN膜用新規材料 Taimata タイマータ |
| 2003年9月 | LiTaO3/SBT薄膜用新規ＭＯＣＶＤ材料 |
| 2003年5月 | PZT低温成膜用Ti化合物 |
| 2002年5月 | ゲート絶縁膜用ALD材料 |
| 2003年3月 | ランタゲン 不斉合成用触媒 |
| 2000年6月 | EtCp(エチルシクロペンタジエニル)錯体 |
スパッタリングターゲット関連
当社のスパッタリングターゲットに関する新技術・新素材への取り組みについて情報をお届けしています。
当社のスパッタリングターゲットに関する情報はこちらをご覧下さい。
| 2009年12月 | 化合物薄膜太陽電池用ターゲット |
|---|---|
| 2009年5月 | 溶融品Co系ホイスラー合金ターゲットの大型化に成功 |
| 2008年6月 | DCスパッタ用酸化ニオブ（NbOx）ターゲット |
| 2008年5月 | 高密度・高純度α型マンガン（Mn）ターゲット |
| 2008年2月 | 高密度PVD材料 |
| 2005年1月 | MgO 4N スパッタリングターゲット |
| 2004年10月 | バリウムチオアルミネートターゲット |
| 2003年7月 | 高純度FeSi2ターゲット |
| 2003年6月 | 窒化ハフニウムターゲット |
| 2002年11月 | 溶融製低酸素Ir-Mnターゲット |
| 2002年7月 | MRAM用スパッタリングターゲット |
| 2002年3月 | Co系ホイスラー合金ターゲット |
| 2001年12月 | 高純度Co及びCo合金ターゲット |
| 2000年11月 | 高密度SrRuOxターゲット |
| 2003年2月 | DVD反射膜用Ag合金ターゲット |
| 2004年1月 | バッキングプレート |
| 2003年10月 | ボンディング技術の紹介 |
| 2003年9月 | ボンディング加工 |
新素材・新材料などその他の材料
当社の新技術・新素材への取り組みについて情報をお届けしています。
| 2010年9月 | 硫化物・窒化物材料 |
|---|---|
| 2010年7月 | ランタゲン® ランタン イソプロポキシド オキシド |
| 2008年3月 | 複合酸化物微粉末 |
| 2007年11月 | 硫化物蛍光体材料 |
| 2007年10月 | 負膨張性Mn窒化物 |
| 2007年6月 | Sr[C5(CH3)5]2 |
| 2006年12月 | Lanthagen-tmsa-Gd |
| 2004年3月 | 硫化物・複合硫化物・青色蛍光体 |
| 2002年3月 | 各種粉末材料・粉末製法の紹介 |
| 2002年7月 | パーティクルフリータブレット（WO3) |
| 2002年5月 | 高純度コバルト化合物 |
| 2002年10月 | イオン打ち込み用ソリッドソース |
| 2000年12月 | AuコートNi粉末 メッキ加工 |
| 2002年1月 | 各種コート材料 |