高純度金属
High-purity Metals
高純度金属とは
弊社では、99.9％以上の高純度な金属および合金材料を取り扱っており、高純度スパッタリングターゲットの経験と技術を生かし、3元系、4元系など多元系合金の製造も可能です。 形状もサブミクロンサイズの粉末から、球形のアトマイズ粉末、そしてインゴットなど、お客様のニーズに応じた様々な形状で供給することも可能です。
また、雰囲気溶解技術を用いて、アルカリ金属系など特殊な金属種の合金製造も対応いたしますのでご相談ください。
金属粉末
フレーク
スポンジ
ショット
ペレット
酸化物粉末
金属等破砕状
金属等破砕状
高純度金属単体
ヒ素・リン
イオンインプランテーション用ソース源として、高純度のAs、Pの粒状ソースを取り扱っています。数多くの半導体製造メーカー様にてご採用の実績があります。
マグネシウムチップ・スティックなど
イオン打ち込みにおいて、ドーパントの極性を反転させる目的としてMg源用材料が用いられています。各種サイズに対応いたします。
高純度リン
金属ショット
各種合金のショット形状への加工もご相談ください。
インゴットとショット
各種合金
NiやFeといった一般的な合金に留まらず、アルカリ金属やアルカリ土類金属を主成分とする活性の高い合金製造にも取り組んでいます。
取り扱いの難しいNaやLi系の合金・金属間化合物など、各種組成や粉末化など、対応いたします。
NaSn合金
粉砕加工品
低酸素、高純度、均一分散性、高流動性などの特徴を持ち、合金バルク（焼結体）用や熔射用原料にも最適な粉末です。
微粉から数百ミクロンの粒度まで、幅広いご要望に対応しています。
アトマイズ粉末
固体を粉砕することなく、溶湯から直接粉体を得る方法です。急冷凝固させるため、形状は丸く、また偏析が少ないのが特徴です。弊社ではガスアトマイズを用いた製法で行っています。
- 真空誘導加熱により溶解した金属を、ガス圧により噴霧し粉末化する設備です。
- 融点が1500℃までの金属の溶解が可能です。
- 10kg（鉄換算）の金属の粉末化が可能です。
特徴
- 金属を電磁誘導加熱により真空中で溶解します。
- 誘導加熱することにより溶けた金属が攪拌され均一な組成にすることができます。
- 不活性ガスにより噴射する為、活性な粉末を製造できます。
| 主な製品 | Ag系、Ti系ロウ材など。CIGなど。 |
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ワイヤー・シート・ロッド
各種金属のワイヤー、シート、ロッドを取り揃えております。また特殊な形状や合金での製造も対応いたしますのでご相談ください。
PVD薄膜ソース
各種サイズ、純度／ガス量／結晶粒の要望、バッキングプレート製作、ボンディング加工、装置周辺部品の製作に対応いたします。
- スパッタリングターゲット
- バッキングプレート
- レーザーアブレーション材料
- EB材料