高純度化学研究所とは
about
「激しい変化の中で、
エレクトロニクスは変化を続けています。」
高純度化学研究所は、元素をキーワードに様々な金属、合金、化合物を製造販売する素材メーカーです。
日々進歩する最先端の研究やデバイス開発、多くの電子部品や半導体の製造を行う研究者、技術者の方々のために薄膜材料、無機化合物や金属粉末、機能性材料など、幅広い材料を創り出し、よりよい品質の材料作りに取り組んでいます。特に近年、高品質の材料を安定供給することが強く求められており、60年の実績で培ったノウハウと固定概念にとらわれない創意工夫でご要望にお応えしています。
高純度化学研究所は、 「技術革新の源は高純度材料にあり」という信念のもと、激しい変化の中で「挑戦」し続けています。
主な製品や用途について
最先端の技術を支える薄膜材料
私たちの身の回りには、多くの電子部品や半導体が使われています。
その中で重要な役割を果たすのが、薄膜です。
数ミクロン～数ナノメートルといった、極めて薄い分子や原子の層が、
その原子の種類、厚さ、組み合わせでそれらの特性を決定しています。
高純度化学研究所は、この薄膜材料を高純度かつ様々な組み合わせで生産しています。
PVD材料
PVD（Physical Vapor Deposition)材料とは、薄膜形成法である物理的気相成長法に使用される材料で、スパッタリングターゲットや蒸着材料などがあります。 製造法は、主に溶解法と焼結法があります。
溶解法は、アルミニウムや金属を高温で溶かして、合金などを製造する技法で、溶解温度などにより様々な溶解方法があります。弊社ではそのノウハウにより3元、4元、5元の合金について不純物を低減した状態で製造することができます。
焼結法は、金属や酸化物などの粉末を高温下で焼き固め緻密な物をつくる技法です。
真空中や不活性雰囲気での焼結、高圧下での焼結など様々な焼結法があり、密度や結晶状態などの制御も可能です。
CVD材料
CVD（Chemical Vapor Deposition)材料とは、薄膜形成法である化学的気相成長法に使用される材料です。
相間絶縁膜形成用材料やALD用材料、強誘電体電極形成材料などがあります。
主力材料であるTEOS及びB・Pソースは、国内外の大手半導体メーカーにも供給しており、品質・生産規模は業界トップレベルです。
CSD材料
CSD（Chemical Solution Deposition)材料とは、材料溶液を塗布後に熱処理することにより酸化膜を形成する材料で、MODコート材料とゾルゲルタイプの材料があります。
安価に膜形成ができ、多くの元素での供給が可能のため大学・企業の研究部門など各方面の研究開発者に好評いただいています。
無限の可能性から
素材を創り出す無機材料
無機材料は、エレクトロニクス材料をはじめ、様々な場所で使われています。
身近な物として、スマートフォンのリチウム電池、屋根には太陽電池、LED材料やコンデンサーなど、無機材料はすべての材料の基礎となる物で、無限の組み合わせがあります。
私たちは、この様々な元素を組み合わせた無機材料を、
主に研究機関や大学の研究所、企業の開発部門の研究用材料として、
さらには量産工場へ製品の原料として供給しています。
無機材料について
無機材料は酸化物、硫化物、リン化物、窒化物、金属塩類といった様々な種類があり、気相法、固相法、液相法などの方法で合成を行っています。
微粒子への対応も可能で、アトマイズ粉末などの合金粉末の製造も行っています。
粉砕装置も各種保有しており、サブミクロンサイズまでの対応を行っています。
無機材料の製造ノウハウを応用し、機能性材料として、熱膨張抑制剤と定温保持材料なども製造しています。
