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会社概要・沿革

会社概要

商号
株式会社 高純度化学研究所
創業
昭和31年2月
設立
昭和37年9月7日
資本金
5,001万147円
役員
代表取締役社長
宝地戸道雄
常務取締役
和田修治
取締役
宝地戸洋子
取締役
宝地戸展幸
取締役
山形加津宏
取締役
水谷文一
取締役
池田昌史
監査役
櫻井重人
従業員
230人
取引銀行
  • 三菱UFJ銀行(下赤塚支店)
  • みずほ銀行(成増支店)
  • 三井住友銀行(成増支店)
事業内容
  • 電子材料の製造販売
  • 新素材研究開発
  • 依頼分析の受託
  • 電子部品の製造販売

沿革

1962年  9月

東京都板橋区に資本金200万円で(株)高純度化学研究所を設立

1972年  2月

本社・工場を和光市に移転

12月

化学分析センターを開設

1978年  2月

埼玉県坂戸市に坂戸工場を開設

1983年  9月

坂戸市に本社社屋を建設し、本社移転

1985年  10月

川島工場第一期・第二期工事竣工

1998年  1月

埼玉県東松山市に東松山工場第一期工事竣工

4月

半導体用液体CVD材料でISO9002認証を取得

6月

東松山工場において半導体用液体CVD材料の量産を開始

1999年  12月

東松山工場第二期工事竣工

2003年  8月

全社にてISO9001を認証取得

11月

本社・本社工場及び川島工場・東松山工場にてISO14001を認証取得

2005年  7月

東松山工場においてMO-CVD材料の量産を開始

2006年  9月

代表取締役社長に宝地戸道雄が就任

2009年  11月

本社工場竣工し、川島工場よりPVD部門集結

2013年  7月

名古屋営業所開設

2016年  9月

新経営理念発表

2024年  10月

埼玉県川越市に川越工場竣工

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