分析
Analysis
信頼性の高い分析を行うために必要なのは、適切な作業環境と最新鋭の分析機器、そして確かな技術を持った分析技術者です。
分析部門では、高純度材料メーカーとして蓄積してきた知識や経験を生かし、製品の品質保証や新材料開発を行うために重要な分析評価を行っています。
弊社製品をご購入いただいたお客様への追加分析対応の他、分析のみのご依頼にも対応いたします。
主な分析作業は、温湿度管理され除塵設備を備えた分析専用棟にて行っています。
極微量不純物分析は、クリーンルーム内にて前処理から測定までを行うことで環境からの不純物混入を排除しています。
各種分析料金表
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分析・試験方法 | 分析・試験内容 | 料金(税別) | |
---|---|---|---|
ICP分析 | 組成分析 | 分析前処理費用 | 5,000円 |
定量分析(1元素につき) | 5,000円 | ||
不純物分析 | 分析前処理費用 | 5,000円 | |
定量分析(1元素につき) | 3,000円 | ||
X線回折 | 標準測定 | チャートのみ1試料につき | 15,000円 |
解析1試料につき | 15,000円 | ||
昇温測定 | チャートのみ1試料につき | 別途見積 | |
解析1試料につき | 別途見積 | ||
走査型電子顕微鏡 (FE-SEM) |
形態撮影 | 1試料につき(2視野まで) | 25,000円 |
面分析(マッピング) | 1測定点につき | 30,000円 | |
粒度分布 | 標準測定 | 1試料につき | 15,000円 |
特殊溶媒測定の場合 | 1試料につき | 20,000円 | |
ガス分析 | O分析 | 1試料につき | 10,000円 |
N分析 | 1試料につき | 10,000円 | |
ラジオフレックス (X線透過写真) |
1試料につき | 10,000円 |
分析業務委受託契約約款
詳しくはこちらからご確認ください。
RoHS指令規制物質分析料金表
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RoHS分析 | 元素名 | 料金(税別) |
---|---|---|
カドミウム(Cd) | 5,000円 | |
鉛(Pb) | 5,000円 | |
総クロム(Cr) | 5,000円 | |
六価クロム(Cr6+) | 6,000円 | |
水銀(Hg) | 6,500円 | |
諸経費 | 一試料につき | 3,500円 |
RoHS指令規制物質分析
料金表について
記載されている金額は標準的な価格となります。
分析方法につきましては別途お問い合わせください。
サンプル構成によっては、特殊前処理費、加工費をいただく場合があります。
サンプル費用を申し受ける場合があります。
ISO17025認定機関による分析をご希望の場合は別途お問い合わせください。
詳しくはこちらからお問い合わせください。
主な設備
クリーンルームとクリーンドラフト
高純度製品の分析を行う場合は特別な環境下にて前処理を行い、分析を行っています。
※クラス100とは、1立法フィート(約28L)中に含まれる大きさ0.5μm以上の塵埃の数が100ヶ以下であることを表します。
クラス100のクリーンドラフト
クラス1000のクリーンルーム
誘導結合プラズマ質量分析装置
ICP-MS
測定原理
高温アルゴンプラズマ中に溶液化した試料を噴霧し、イオン化された元素を質量分析する高感度無機元素分析装置です。周期表上のほとんどの元素を同時に測定可能であり、その測定範囲はppbからppt濃度領域に及びます。
プラズマの様子
誘導結合プラズマ発光分光分析装置
ICP-OES
測定原理
励起源はICP-MSと同じですが、励起された光を分光器により分光し、そのスペクトルを測定する装置です。光の波長は元素特有であり、また光の強度はその元素の量に比例することから、高感度な定性・定量ができる装置です。ダイナミックレンジが4~5桁におよび多元素同時に定量できるという特徴を持っています。
※ICP-OESはICP-AESと同じ誘導結合プラズマ発光分光分析装置の名称
ICP-OES:Inductively Coupled Plasma Optical Emission Spectrometry
ICP-AES:Inductively Coupled Plasma Atomic Emission Spectrometry
発光スペクトル例
炭素・硫黄分析装置
測定原理
固体試料と助燃剤をセラミックスるつぼに投入し、高濃度酸素気流中で高周波電流にて試料を燃焼させます。
試料中のガス成分を赤外線検出器にてスペクトルを測定することで炭素、硫黄の定量分析をする装置です。
炭素抽出ピーク例
セラミックスるつぼ
X線回折装置 XRD
測定原理
粉末あるいは固体試料にX線を照射すると試料内の結晶より回折X線が検出されます。
この回折X線の位置や強度について、測定データと標準データを比較し定性分析(同定)をする装置です。
昇温X線回折装置
測定原理
上記X線回折装置と組み合わせて使用します。
試料を高温に加熱することにより、温度上昇による結晶構造変化や物質変化(状態図)などの情報が得られます。
不活性ガス雰囲気や、真空状態での測定も可能です。
昇温X線回折装置
電界放射型走査型電子顕微鏡 FE-SEM
測定原理
細い入射電子線を試料に照射し、放出された二次電子線を用いて画像にすることで、表面の凹凸や試料形状・大きさを観察する装置です。
粉末のSEM観察例
エネルギー分散型蛍光X線装置 EDS
測定原理
細い入射電子線を試料に照射すると、試料から様々な電子・電磁波が放出されます。 放出された特性X線のエネルギーを用いて元素分析やマッピング分析する装置です。
粒度分布測定装置
測定原理
溶液に分散させた粉末試料にレーザー光を照射すると回折/散乱現象が起こります。
この光強度分布は粒子の大きさに依存するので、その現象から粒子径を計測する装置です。
回折/散乱理論は試料が真球であることが前提に計算されております。