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ALD/ALE 2019 にて講演します。

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ALD/ALE 2019 にて講演します。

AVS 19th International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2019)

Title: Atomic Layer Deposition of Gallium Oxide Thin Films Using  (Pentamethylcyclopentadienyl)gallium(I)
Speaker:Fumikazu Mizutani1,Shintaro Higashi1,Mari Inoue2, Toshihide Nabatame2
(1 Kojundo Chem,2 National Institute for Materials Science)

Date: July 21-Wednesday, July 24, 2019
Venue:, the Hyatt Regency Bellevue in Bellevue, Washington

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